|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 50 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis of SiC Deposition Rate in a Tubular Hot-Wall Reactor with Polymeric Source Using the DoE Method |
| Auteur: |
Jamali Keikha, A. Fanaei Sheikholeslami, T. Behzadmehr, A. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 42 (2013) nr. 6 pagina's 931-938 |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 50 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |