|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Inductively coupled plasma reactive ion etching of SiC single crystals using NF3-based gas mixtures |
| Auteur: |
Choi, Hyun-Joon Lee, Byung-Teak |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 32 (2003) nr. 1 pagina's 1-4 |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |