|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 66 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of nitrogen-incorporated silicon oxycarbide films and plasmas for plasma enhanced chemical vapor deposition with TMOS/N2/NH3 |
| Auteur: |
Chung, C.J. Chung, T.H. Shin, Y.M. Kim, Y. |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 10 (2010) nr. 2 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 66 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |