|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of the deposition conditions on the properties of photocatalytic WO3 thin films prepared by mid-frequency magnetron sputtering |
| Auteur: |
Li, H. Mu, Z.X. Liu, S.G. Zhang, J.L. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 99 (2019) nr. C pagina's 99-105 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |