|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of the film thickness on the crystal structure and ferroelectric properties of (Hf0.5Zr0.5)O2 thin films deposited on various substrates |
| Auteur: |
Shiraishi, Takahisa Katayama, Kiliha Yokouchi, Tatsuhiko Shimizu, Takao Oikawa, Takahiro Sakata, Osami Uchida, Hiroshi Imai, Yasuhiko Kiguchi, Takanori Konno, Toyohiko J. Funakubo, Hiroshi |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 70 (2017) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |