|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Ultrathin oxynitridation process through ion implantation in a poly Si1−x Ge x gate MOS capacitor |
| Auteur: |
Jacob, A.P. Myrberg, T. Friesel, M. Nur, O. Willander, M. Serincan, U. Turan, R. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 6 (2003) nr. 1-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 20 gevonden artikelen
| << vorige |