Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 73 van 78 gevonden artikelen
 
 
  The use of convergent beam electron diffraction for stress measurements in shallow trench isolation structures
 
 
Titel: The use of convergent beam electron diffraction for stress measurements in shallow trench isolation structures
Auteur: Stuer, C
Van Landuyt, J
Bender, H
Rooyackers, R
Badenes, G
Verschenen in: Materials science in semiconductor processing
Paginering: Jaargang 4 (2001) nr. 1-3 pagina's 117-119
Jaar: 2001
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Science Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 73 van 78 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland