|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 42 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer deposition of Ru/rutile Al-TiO2/Ru layer stacks for high-performance silicon capacitors |
| Auteur: |
Kim, Taehyun Lim, Da Eun Kim, Hyeongjun Nah, Hyunmin Park, Heun Chung, Yoon Jang Lee, Woongkyu |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 195 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 42 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |