|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
The effects of CF4 plasma treatment on the performance, gate bias stability, and defect characteristics of low-temperature indium-gallium-tin-oxide thin-film transistors |
| Auteur: |
Kim, Dongbhin Lee, Kyeong-Bae Noh, Junho Kim, Donghyun Park, Hyunsoo Choi, Byoungdeog |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 191 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |