|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Reduction of trap density in high-k dielectrics through optimized ALD process and high-pressure deuterium annealing |
| Auteur: |
Hwang, Taewon Choi, Su-Hwan Song, Ki-Cheol Lee, Yeonhee Kwag, Jae-Hyeok Lee, Jun-Yeoub Park, Chang-Kyun Park, Jin-Seong |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 191 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |