|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 57 gevonden artikelen
| Titel: |
Chemical-mechanical polishing improvements and subsurface damage elimination for Cz grown (010) β-Ga2O3 substrates |
| Auteur: |
Lavelle, Robert M. Everson, William J. Erdely, Daniel J. Lyle, Luke A.M. Pistner, Scott W. Hallacher, Samuel R. Redwing, Joan M. Snyder, David W. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 190 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 57 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |