|
Study on adsorption and gas sensitive behavior of WO3 (002) and (200) crystal planes |
|
|
|
Titel: |
Study on adsorption and gas sensitive behavior of WO3 (002) and (200) crystal planes |
Auteur: |
Wang, Dan Wang, Tianyu Qie, Yixuan Fang, Jiarui Bai, Xiruo Liu, Run Lv, Tianle Li, Chunguang Tian, Hongyang Li, Ziheng |
Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
Paginering: |
Jaargang 179 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2024 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|