|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 26 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
Pulsed 193 nm Excimer laser processing of 4H–SiC (0001) wafers with radiant exposure dependent in situ reflectivity studies for process optimization |
| Auteur: |
Menduiña, A.P. Doval, A.F. Delmdahl, R. Martin, E. Kant, K. Alonso-Gómez, J.L. Chiussi, S. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 168 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 26 van 38 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |