|
Gate leakage mechanisms of the AlGaN/GaN HEMT with fluorinated graphene passivation |
|
|
|
Titel: |
Gate leakage mechanisms of the AlGaN/GaN HEMT with fluorinated graphene passivation |
Auteur: |
Ding, Xiaoyu Song, Liang Yu, Guohao Cai, Yong Sun, Yuhua Zhang, Bingliang Du, Zhongkai Zeng, Zhongming Zhang, Xinping Zhang, Baoshun |
Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
Paginering: |
Jaargang 162 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2023 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|