|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of germanium dry etching using inductively coupled SF6 plasma |
| Auteur: |
Shim, K-H. Kil, Y-H. Yang, H.D. Park, B.K. Yang, J-H. Kang, S. Jeong, T.S. Kim, Taek Sung |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 15 (2012) nr. 4 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |