|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 48 gevonden artikelen
| Titel: |
Bias-stress stability of top-gate coplanar a-ITGZO TFTs with HfO2 and HfAlO gate dielectrics |
| Auteur: |
Kong, Heesung Cho, Kyoungah Lee, Hosang Lee, Seungjun Lim, Junhyung Kim, Sangsig |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 143 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 48 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |