|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 48 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer etching technique for InAlN/GaN heterostructure with AlN etch-stop layer |
| Auteur: |
Du, Fangzhou Jiang, Yang Qiao, Zepeng Wu, Zhanxia Tang, Chuying He, Jiaqi Zhou, Guangnan Cheng, Wei-Chih Tang, Xinyi Wang, Qing Yu, Hongyu |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 143 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 48 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |