|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of CMP damage induced during flattening SiC epitaxial layer on device performances |
| Auteur: |
Masumoto, Keiko Senzaki, Junji Hasegawa, Masaki Ohira, Kentaro Kojima, Kazutoshi Kobayashi, Kenji Okumura, Hajime |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 116 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |