|
Statistical, simulation and modeling analysis of variability in memristors with single and bilayer dielectrics of HfO2 and Al2O3, a comparison |
|
|
|
Titel: |
Statistical, simulation and modeling analysis of variability in memristors with single and bilayer dielectrics of HfO2 and Al2O3, a comparison |
Auteur: |
Cantudo, A. Jiménez-Molinos, F. Ruiz, P.Q. López, A. Villena, M.A. González, M.B. Campabadal, F. Roldán, J.B. |
Verschenen in: |
Chaos, solitons & fractals |
Paginering: |
Jaargang 196 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2025 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
The Authors |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|