|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
Dependence of the gas composition in a microwave plasma-assisted diamond chemical vapor deposition reactor on the inlet carbon source: CH4 versus C2H2 |
| Auteur: |
McMaster, Mark C. Hsu, Wen L. Coltrin, Michael E. Dandy, David S. Fox, Ciaran |
| Verschenen in: |
Diamond and related materials |
| Paginering: | Jaargang 4 (1995) nr. 7 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |