|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 39 van 69 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of gas phase parameters on the deposition kinetics and morphology of thin diamond films deposited by HFCVD and MWCVD technique |
| Auteur: |
Beckmann, R. Kulisch, W. Frenck, H.J. Kassing, R. |
| Verschenen in: |
Diamond and related materials |
| Paginering: | Jaargang 1 (1992) nr. 2-4 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1992 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Publishers B.V. All rights reserved |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 39 van 69 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |