|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Argon plasma inductively coupled plasma reactive ion etching study for smooth sidewall thin film lithium niobate waveguide application |
| Auteur: |
Ulliac, G. Calero, V. Ndao, A. Baida, F.I. Bernal, M.-P. |
| Verschenen in: |
Optical materials |
| Paginering: | Jaargang 53 (2016) nr. C pagina's 1-5 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 36 gevonden artikelen
| volgende >> |