|
Characterization of interface roughness in W/Si multilayers by high resolution diffuse X-ray scattering |
|
|
|
Titel: |
Characterization of interface roughness in W/Si multilayers by high resolution diffuse X-ray scattering |
Auteur: |
Salditt, T. Lott, D. Metzger, T.H. Peisl, J. Vignaud, G. Legrand, J.F. Grübel, G. Høghøi, P. Schärpf, O. |
Verschenen in: |
Physica. B, Condensed matter |
Paginering: |
Jaargang 221 (1996) nr. 1-4 pagina's 5 p. |
Jaar: |
1996 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Science B.V. All rights reserved |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|