|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 75 gevonden artikelen
| Titel: |
A new UV lithography photoresist based on composite of EPON resins 165 and 154 for fabrication of high-aspect-ratio microstructures |
| Auteur: |
Yang, Ren Soper, Steven A. Wang, Wanjun |
| Verschenen in: |
Sensors and Actuators. A, Physical |
| Paginering: | Jaargang 135 (2007) nr. 2 pagina's 12 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 75 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |