|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Cl2-based inductively coupled plasma etching of CoFeB, CoSm, CoZr and FeMn |
| Auteur: |
Jung, K.B Cho, H Hahn, Y.B Hays, D.C Feng, T Park, Y.D Childress, J.R Pearton, S.J |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 60 (1999) nr. 2 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |