|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Charge trapping effect in HfO2-based high-k gate dielectric stacks after heavy ion irradiation: The role of oxygen vacancy |
| Auteur: |
Li, Zongzhen Liu, Tianqi Bi, Jinshun Yao, Huijun Zhang, Zhenxing Zhang, Shengxia Liu, Jiande Zhai, Pengfei Liu, Jie |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 459 () nr. C pagina's 143-147 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |