|
Temperature of thermal spikes in amorphous silicon nitride films produced by 1.11MeV C60 3+ impacts |
|
|
|
Titel: |
Temperature of thermal spikes in amorphous silicon nitride films produced by 1.11MeV C60 3+ impacts |
Auteur: |
Kitayama, T. Nakajima, K. Suzuki, M. Narumi, K. Saitoh, Y. Matsuda, M. Sataka, M. Tsujimoto, M. Isoda, S. Kimura, K. |
Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
Paginering: |
Jaargang 354 (2015) nr. C pagina's 4 p. |
Jaar: |
2015 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|