|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 101 van 143 gevonden artikelen
| Titel: |
Properties of LaAlO3 thin film on GaAs(100) treated by in situ NH3 plasma |
| Auteur: |
Jia, T.T. Cheng, X.H. Chao, D. Xu, D.W. Wang, Z.J. Xia, C. Zhang, Y.W. Yu, Y.H. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 307 (2013) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 101 van 143 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |