|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 100 van 143 gevonden artikelen
| Titel: |
Properties of HfAlO film deposited by plasma enhanced atomic layer deposition |
| Auteur: |
Cao, Duo Cheng, Xinhong Jia, Tingting Zheng, Li Xu, Dawei Wang, Zhongjian Xia, Chao Yu, Yuehui |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 307 (2013) nr. C pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 100 van 143 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |