|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 207 van 242 gevonden artikelen
| Titel: |
Sequential implantation of halogen and copper ions in silica glass |
| Auteur: |
Fukumi, K. Chayahara, A. Kageyama, H. Kinomura, A. Mokuno, Y. Kitamura, N. Kadono, K. Horino, Y. Nishii, J. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 206 (2003) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 207 van 242 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |