|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 100 van 187 gevonden artikelen
| Titel: |
Influences of bottom electrode TaN on electrical characteristics for metal–HfO2–metal capacitors |
| Auteur: |
Kang, Tsung-Kuei Chang, Chia-Tung Lin, Cheng-Li Wu, Wen-Fa |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 86 (2009) nr. 10 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 100 van 187 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |