|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 97 van 106 gevonden artikelen
| Titel: |
Surface chemical reactions of etch stop prevention in plasma-enhanced atomic layer etching of silicon nitride |
| Auteur: |
Tercero, Jomar U. Hirata, Akiko Isobe, Michiro Karahashi, Kazuhiro Fukasawa, Masanaga Hamaguchi, Satoshi |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 477 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 97 van 106 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |