|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 106 gevonden artikelen
| Titel: |
Conformal growth of GaP on high aspect ratio Si structured surface via plasma-enhanced atomic layer deposition |
| Auteur: |
Uvarov, Alexander Gudovskikh, Alexander Baranov, Artem Maksimova, Alina Vyacheslavova, Ekaterina Kirilenko, Demid |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 477 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 106 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |