|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 65 van 97 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma deposition of hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) under a wide bias potential range |
| Auteur: |
Serra, C. Pascual, E. Maass, F. Esteve, J. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 47 (1991) nr. 1-3 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
1991 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 65 van 97 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |