Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 12 van 53 gevonden artikelen
 
 
  Effects of He ion energy on blistering characteristics of Si sequentially implanted with H and He ions in various sequences
 
 
Titel: Effects of He ion energy on blistering characteristics of Si sequentially implanted with H and He ions in various sequences
Auteur: Chao, Der-Sheng
Chung, Chih-Hung
Liang, Jenq-Horng
Lin, Chih-Ming
Verschenen in: Surface & coatings technology
Paginering: Jaargang 355 (2018) nr. C pagina's 155-161
Jaar: 2018
Inhoud:
Uitgever: Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 12 van 53 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland