|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 45 gevonden artikelen
| Titel: |
Low-temperature chemical vapor deposition (CVD) of metallic titanium film from a novel precursor |
| Auteur: |
Guo, Junjie Yang, Yafeng Zhu, Qingshan Fan, Chuanlin Lv, Pengpeng Xiang, Maoqiao |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 353 (2018) nr. C pagina's 18-24 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 45 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |