|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 58 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of RF power of post-deposition oxygen treatment on HfO2 gate dielectrics |
| Auteur: |
Cheng, Yi-Lung Bo, Tian-Cih |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 260 (2014) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 58 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |