|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 127 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of ion bombardment on low-temperature growth of TiO2 thin films in DC reactive sputtering with two sputtering sources |
| Auteur: |
Yasuda, Yoji Tobisaka, Masayuki Kamikuri, Kento Hoshi, Yoichi |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 231 (2013) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 127 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |