|
Transition metal nitride thin films grown by MOCVD using amidinato based complexes [M(NtBu)2{(iPrN)2CMe}2] (M=Mo, W) as precursors |
|
|
|
Titel: |
Transition metal nitride thin films grown by MOCVD using amidinato based complexes [M(NtBu)2{(iPrN)2CMe}2] (M=Mo, W) as precursors |
Auteur: |
Srinivasan, N.B. Thiede, T.B. de los Arcos, T. Gwildies, V. Krasnopolski, M. Becker, H.-W. Rogalla, D. Devi, A. Fischer, R.A. |
Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
Paginering: |
Jaargang 230 (2013) nr. C pagina's 7 p. |
Jaar: |
2013 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|