|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 133 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of SiH4/H2 VHF plasma produced by short gap discharge |
| Auteur: |
Nishimiya, Tatsuyuki Yamane, Tsukasa Nakao, Sachiko Takeuchi, Yoshiaki Yamauchi, Yasuhiro Takatsuka, Hiromu Muta, Hiroshi Uchino, Kiichiro Kawai, Yoshinobu |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 205 (2011) nr. S2 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 133 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |