|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
The influence of plasma power on the temperature-dependant conductivity and on the wet chemical etch rate of sputter-deposited alumina thin films |
| Auteur: |
Fricke, S. Friedberger, A. Schmid, U. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 203 (2009) nr. 19 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |