|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of H2 dilution gas on the growth of ZrC during low pressure chemical vapor deposition in the ZrCl4–CH4–Ar system |
| Auteur: |
Park, Jong Hoon Jung, Choong Hwan Kim, Do Jin Park, Ji Yeon |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 203 (2008) nr. 1-2 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |