|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 94 van 135 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma characteristics of low-k SiOC(–H) films prepared by using plasma enhanced chemical vapor deposition from DMDMS/O2 precursors |
| Auteur: |
Jung, An Soo Navamathavan, R. Lee, Kwang Man Choi, Chi Kyu |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 202 (2008) nr. 22-23 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 94 van 135 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |