|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 105 van 135 gevonden artikelen
| Titel: |
Properties of Si x N y thin film deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperature using SiH4/NH3/Ar as diffusion barrier film |
| Auteur: |
Pham, Thuy T.T. Lee, J.H. Kim, Y.S. Yeom, G.Y. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 202 (2008) nr. 22-23 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 105 van 135 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |