|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 36 van 213 gevonden artikelen
| Titel: |
Deposition of TiO2 Films by reactive Inductively Coupled Plasma assisted DC magnetron sputtering for high crystallinity and high deposition rate |
| Auteur: |
Han, Y.H. Jung, S.J. Lee, J.J. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2007) nr. 9-11 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 36 van 213 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |