|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimization of an amorphous silicon mask PECVD process for deep wet etching of Pyrex glass |
| Auteur: |
Iliescu, Ciprian Miao, Jianmin Tay, Francis E.H. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 192 (2005) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |