|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Optical emission study of CH4+CHF3 ECR plasma and properties of a-C:F:H films |
| Auteur: |
Xin, Y Ning, Z.Y Ye, C Lu, X.H Xiang, S.L Du, W Huang, S Chen, J Cheng, S.H |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 173 (2003) nr. 2-3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |