|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of fluorine doping on SiO x F y films prepared from a TEOS/O2/CF4 mixture using a plasma enhanced chemical vapor deposition system |
| Auteur: |
Jeong, Sang-Hun Nishii, Junji Park, Hyuk-Ryul Kim, Jae-Keun Lee, Byung-Teak |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 168 (2003) nr. 1 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |