|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Dielectric characterization of microwave plasma enhanced chemical vapor deposition diamond films with Ar–H2–CH4 gas mixture |
| Auteur: |
Ye, Haitao Sun, Chang Q. Hing, Peter |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 132 (2000) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |