|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 52 van 77 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma sources and characterization in the r.f. test facility |
| Auteur: |
Yang, J.G Kim, W.S Chung, Y.S Choi, J.H Yoon, N.S You, K.-I Choi, J.W Kim, B.C Kyum, M.C Na, H.K Hong, J Lee, G.S Hwang, S.M Huh, J.H Ryu, C.M Sim, J.H Son, D.C Hong, S.J |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 112 (1999) nr. 1-3 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 52 van 77 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |